POWŁOKI PVD
POWŁOKI NANOSZONE METODAMI JONOWYMI — PVD
Wymagania stawiane warstwom powierzchniowym ciągle rosną i oczekuje się od nich zapewnienia odpowiedniej odporności na korozję lub na podwyższoną temperaturę, wysokich właściwości wytrzymałościowych, trwałości, niezawodności i bezpieczeństwa.
PVD jest nowoczesną technologią pozwalającą nanosić cienkie powłoki, głównie azotków i węglików twardych metali na metale, szkło, ceramikę oraz tworzywa sztuczne. Stosowanie technologii w systemie PVD zapewnia powtarzalność procesu z zachowaniem kolorystyki, daje możliwości zaspokojenia różnorodnych i często wzajemnie sprzecznych wymagań eksploatacyjnych stawianych nowoczesnym powłokom.
Daje możliwość wytwarzania kompozycji dwu- trój- lub wielowarstwowych, kompozycji bimetalicznych, powłok z warstwami nieizostrukturalnymi i izostrukturalnymi (supersieci). Kilka źródeł substratów pozwala łatwo utworzyć kompozyt, który spełniać będzie z zewnątrz wymagania funkcjonalne, wynikające z warunków eksploatacji poprzez odpowiednie właściwości przeciwcierne, antykorozyjne, izolacji cieplnej, dekoracyjne itp., w wewnętrznej zaś zapewnia dobrą spójność powłoki z podłożem, a często również dodatkową ochronę przed niektórymi wymuszeniami zewnętrznymi (np. nacisk czy penetracja wnętrza powłoki przez substancje reaktywne w wyniku np. nieszczelności strukturalnej).
t = few atomic cells .. 100 nm
TiC/Ti (C, N)+TiN
t = 0.5 … 10 um
Ti (C, N)+TiC+Al2O3+TiN
Obszarem wykorzystania tych nowoczesnych technologii inżynierii powierzchni jest: elektronika, technologie komputerowe, optyka i optoelektronika, biomateriały, implanty medyczne oraz inne dziedziny nowoczesnej techniki i technologii. Nietoksyczność umożliwia stosowanie powłok w kontakcie ze środkami spożywczymi, farmaceutycznymi itp.
Technologie te mają zastosowanie ze względu na duży zakres aplikacji przemysłowych i możliwości dostosowania materiałów pokrywających do potrzeb odbiorców. Jest to również technologia oceniana jako „ekologicznie czysta”, w wyniku prowadzenia procesu nie powstają odpady technologiczne, nie występują emisje zanieczyszczeń do atmosfery, wyeliminowanie konieczności stosowania toksycznych kąpieli galwanicznych, brak powstawania ścieków technologicznych, urządzenia posiadają wyłącznie zamknięte obiegi wody.
Stosujemy najnowocześniejszą technologię obróbki powierzchniowej, bardzo efektywną i gwarantującą ogromne oszczędności materiałów konstrukcyjnych – na tanich materiałach można nanieść warstwy zwiększające kilkukrotnie ich trwałość. Można nanosić warstwy na przedmioty dowolnych kształtów, których wymiary nie mogą przekroczyć 180cm x 130cm. Jest to ostateczna obróbka powierzchniowa.
W napylarkach próżniowych, które znajdują się w naszej firmie istnieje możliwość wytwarzania warstw azotków metali, takich jak: Cr, Hf, Mo, Ta, V, W i Zr, azotków złożonych (Ti, Al) N, węglików B4C, Cr3C2, HfC, NbC, SiC, TaC, TiC, WC, W2C, ZrC, borków VB, FeB/Fe2B oraz tlenków i siarczków.
Technologia PVD wykorzystuje zjawiska fizyczne, jak odparowanie metali albo stopów lub też rozpylanie katodowe w próżni i jonizacje gazów i metali – przy wykorzystaniu różnych procesów fizycznych. Ich wspólną cechą jest krystalizacja par z plazmy. Pary metali lub związków osadzone są na zimnym lub podgrzanym do 400–500 C podłożu, co pozwala na pokrywanie podłoża zahartowanego i odpuszczonego, bez obawy spadku jego twardości w procesie osadzania powłoki, lecz jednocześnie prowadzi do wytwarzania powłok bardzo cienkich i dobrze związanych z podłożem.